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清洗設備
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VTC-200-CE半柜式清洗機采用直線導軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來回掃動,同時配備有去離子水淸洗和氮氣吹干功能,采用高精度伺服電機控制 wafer的旋轉,由七寸全彩觸屏進行操作，全不銹鋼機柜,耐魔蝕透明觀察蓋,絲桿直線導軌,不銹鋼內腔,設計合理,經久耐用。伺服馬達控制旋轉速度和時間,自動控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復性好。
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