產(chǎn)品簡介
該自動鈣鈦礦涂膜系統(tǒng)采用自動吸液注液方式，注液后在基片表面自動旋涂出一層薄膜，旋涂后移動基片至烤膠機表面進行薄膜烘干。液體可進行攪拌防止沉淀，如需加熱可對液體進行加熱操作。整個操作過程在11寸觸摸屏上進行設(shè)置，操作直觀方便。該設(shè)備適用于大專院校及科研實驗室進行的鈣鈦礦薄膜及其他液體薄膜的研究，可根據(jù)客戶各種要求進行設(shè)備定制。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品名稱 | VTC-110PAX高通量自動旋轉(zhuǎn)涂膜系統(tǒng) |
產(chǎn)品型號 | VTC-110PAX |
主要參數(shù) | VGB-6手套箱參數(shù)：可開啟式單面雙工位手套箱 手套箱腔體 | 殼體材料：304 不銹鋼
尺寸: 1200mm(L) x 780mm(W) x 900mm(H)
前窗設(shè)計為開啟式，以便放入各種儀器 | 腔體環(huán)境 | 水含量: <1 ppm (20°C, 1 atm)
氧含量: <1 ppm (20°C, 1 atm) | 前級室 | 設(shè)計有兩個前級室
大前級室尺寸：Φ360mm x 600mmL
小前級室尺寸：Φ150 mm x 300mm(L) | 工作氣體 | 工作氣體：N2、Ar、He 等惰性氣體
控制氣體：壓縮空氣或惰性氣體
還原氣體：工作氣體和氫氣（H2）的混合氣。
如果凈化系統(tǒng)只有除水功能的，還原氣體與工作氣體相同 | 氣體凈化系統(tǒng) | 德國 BASF 除氧材料，美國 UOP 吸水材料，凈化系統(tǒng)再生過程自動控制，自動除水除氧功能；可長期、持續(xù)維持氣體純度：水<1ppm，氧<1ppm。 | 壓力控制系統(tǒng) | 腔體氣壓可通過 PLC 觸摸屏自動控制
控制精度為: ±1Pa
也可通過腳踏開關(guān)進行手動控制 | 過濾系統(tǒng) | 進氣和出氣端都安裝有過濾器
過濾精度為：0.3μm | 控制系統(tǒng) | SIEMENS 彩色觸摸屏（6 寸），PLC 控制系統(tǒng)，中英文雙語可切換
水探頭：采用美國 GE 品牌，0～1000ppm 觸摸屏顯示，精度 0.1 ppm
氧變送器：采用美國AII品牌，0～1000ppm觸摸屏顯示，精度0.1 ppm
壓力傳感儀：采用美國 setra 品牌，-2500～2500Pa 觸摸屏顯示，精度±1Pa | 手套 | 美國 NORTH 品牌丁基合成橡膠 | 照明系統(tǒng) | 配置飛利浦品牌熒光燈管 | 儀器尺寸 | 2300mm(L) x 1500mm(W) x 1900mm(H) | 注意事項 | 手套箱內(nèi)部氣體循環(huán)時，必須保證循環(huán)系統(tǒng)管道通暢，不可堵塞
手套箱中不可通入腐蝕性氣體
要定期對手套箱進行再生
手套箱的除氧速率要根據(jù)所通入的工作氣體而定，采用 N2 的除氧要比通入 Ar 好
若手套箱內(nèi)部放有腐蝕性氣體（如 LiPF6 電解液），不使用時，必須把裝液體的瓶子密封好 |
制膜系統(tǒng)參數(shù) 旋涂工位數(shù)量 | 4工位 | 旋涂機參數(shù) | 1、腔體（材質(zhì)）：聚丙烯 2、載樣盤（吸盤）：聚丙烯吸盤Φ19mm 、Φ60mm 、φ100㎜各一個 3、運行方式：可儲存 12 組程序；每組程序包含 6 個運行階段 4、涂膜轉(zhuǎn)速：20rpm-12500rpm 有效，速度分辨率1rpm/s 5、增減速率：每段增減速率設(shè)置范圍： 20 rpm —15000 rpm/s 6、涂膜時間：每段時間范圍：0-3000s 7、轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性：±1% | 液體攪拌系統(tǒng) | 配備四個可加熱磁力攪拌泵 加熱溫度RT-100℃ 磁力攪拌速度：0-2000rpm | 注液系統(tǒng) | 移液槍自動左右上下移動 水平移動有效行程：500mm行程 水平移動速度：1~1800mm/min(整數(shù))。 垂直上下移動有效行程：250mm； 上下提拉移動速度：1~200mm/min(整數(shù)) 配備四個高精度自動注液器 注液精度：±1μl 增量：1μl | 薄膜烘干系統(tǒng) | 1、加熱功率：3500W 2、加熱溫度：≤500℃ 3、控溫精度：±1℃ 4、加熱板：350mm×240mm |
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產(chǎn)品型號：
關(guān)注公眾號