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UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統(tǒng)

簡要描述:UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統(tǒng),包含自動鑲嵌、研磨拋光以及清洗單元,可以實現(xiàn)從鑲嵌-取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動流程,通過觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數(shù),并能進行參數(shù)設定存檔,并可一鍵啟動程序,從而實現(xiàn)樣品自動化操作的一致性。且鑲嵌、磨拋、清洗單位均可以單獨或搭配靈活使用,適用于金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復性和一致性實驗,以及需要大批量制樣

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-01-17
  • 訪  問  量:1131

詳細介紹

品牌其他品牌磨盤個數(shù)1個
磨盤尺寸φ300mm轉速50-500rpm
價格區(qū)間面議產地類別國產
應用領域地礦,綜合

UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統(tǒng),包含自動鑲嵌、研磨拋光以及清洗單元,可以實現(xiàn)從鑲嵌-取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動流程,通過觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數(shù),并能進行參數(shù)設定存檔,并可一鍵啟動程序,從而實現(xiàn)樣品自動化操作的一致性。且鑲嵌、磨拋、清洗單位均可以單獨或搭配靈活使用,適用于金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復性和一致性實驗,以及需要大批量制樣的材料研究行業(yè)工作者。1、全自動鑲嵌+研磨拋光+清洗一次完成,節(jié)省人力。具有6個鑲嵌工位,最多同時完成6個試樣。
2、可單獨使用鑲嵌或磨拋單元,也可鑲嵌/磨拋單元合并使用,靈活搭配。
3、鑲嵌壓力、溫度、時間可任意調整,隨材質的不同變化。
4、鑲嵌完成后,自動抓取樣品進行研磨拋光。過程中可自動更換不同粒度的研磨砂紙和拋光墊。
5、研磨時,氣動單點加壓樣品,施力平均。
6、研磨時,研磨盤上盤和下盤轉速可任意調整,具有低轉速高扭力的特點,方便使用。
7、氣壓壓力通過節(jié)流閥控制和調整,根據(jù)樣品不同材質,任意調整所需壓力。
8、配備多組滴料裝置,搭配使用,靈活性高。
9、整機外殼鋼板烤漆,耐用安全性高。
10、方便的觸控式人機操作界面,具備可編程的軟件系統(tǒng)及程序儲存。
11、包含多種材料數(shù)據(jù)庫,可滿足對金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復性和一致性實驗。
12、通過超聲和高壓水流實現(xiàn)對樣品進行清洗,確保下一道工序不會被上一道工序殘留物污染。

產品名稱   
UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統(tǒng)
產品型號  
UNIPOL-1210M
主要參數(shù)

1、鑲嵌單元


-單次熱鑲嵌個數(shù):6個
-熱鑲嵌直徑:30mm(高度不大于35mm)
-驅動方式:全自動電動液壓
-加熱溫度:180℃
-加熱時間:1-30min
-冷卻時間:1-30min
-加熱功率:1200w
-單工位壓緊力:220kg

2、研磨拋光單元


-研磨拋光盤采用真空吸附方式
-研磨拋光盤數(shù)量:1個
-研磨拋光盤尺寸:φ300mm
-研磨拋光盤轉速:50-500rpm
-載樣盤孔徑:φ30mm
-載樣盤轉速:10-60rpm
-多點中心加載壓力,通過節(jié)流閥控制和調整壓力
-單個樣品最大加載力:1-5kg

3、儲料單元


-通過程序設置自動更換研磨砂紙和拋光墊
-最多可儲存16組磨片和拋光片,更換順序可設定
-通過真空吸附固定在研磨拋光盤上
-通過程序可設置研磨/拋光時間和次數(shù)

4、清洗單元


-配備進水和排水
-配備超聲清洗
-配備高壓水流清洗
-配備廢料回收裝置

5、研磨拋光液配備


-水、研磨膏×1
-懸浮液×2
-預留1通道

6、其他


-鑲嵌完成后,研磨頭自動抓取試樣至研磨拋光盤
-研磨過程中自動更換不同粒度的砂紙(粗磨、細磨)
-拋光過程中自動更換對應材質的拋光墊
-自動滴加所需水或研磨拋光液
-自動抓取試樣到清洗單元清洗
-觸摸操作屏實時顯示各工序狀態(tài)
-以上內容均可通過設置參數(shù)完成并儲存,一鍵啟動


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