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簡要描述:GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機構(gòu)、企業(yè)實驗室及微小產(chǎn)品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。
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詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,地礦,電子 |
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機構(gòu)、企業(yè)實驗室及進行微小產(chǎn)品真空鍍膜工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)的單位。在蒸發(fā)鍍膜過程中樣品臺可以進行旋轉(zhuǎn),使蒸發(fā)的薄膜材料在樣品表面均勻分布。配有兩組蒸發(fā)單元,一個鎢舟,一個鎢絲籃;鎢舟中可以放粉末狀的薄膜材料,鎢絲籃中可以放條狀或塊狀薄膜材料??刂破敛捎?英寸TFT顯示屏顯示操作界面,TFT式顯示屏具有高響應(yīng)度、高亮度、高對比度等優(yōu)點,觸屏操作,實現(xiàn)全圖形化界面,易用易懂。是高真空的蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,真空度可達(dá)3.0×10-4torr。
特點:
1、采用桌面小型一體化結(jié)構(gòu),將真空腔體、鍍膜電源及控制系統(tǒng)進行整合設(shè)計,體積與一臺A3打印機相仿。
2、采用電阻式雙蒸發(fā)源結(jié)構(gòu),可快速實現(xiàn)蒸發(fā)源的轉(zhuǎn)換。蒸發(fā)單元中裝有兩組蒸發(fā)電極可安裝不同的蒸發(fā)源,適應(yīng)相應(yīng)的鍍膜材料。
3、配有0.1%精度蒸發(fā)電源,并具有恒流輸出功能,對蒸發(fā)舟能起到很好的保護作用。
4、可選配石英晶體膜厚控制儀,在鍍膜過程中對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。
5、可將采集到的鍍膜數(shù)據(jù)保存到U盤,便于用戶分析控制(選配)。
6、本機將所有功能設(shè)計成標(biāo)準(zhǔn)化模塊,根據(jù)用戶不同的需求對相應(yīng)模塊進行組合,以達(dá)到優(yōu)秀的鍍膜環(huán)境,并便于用戶維修與維護。
7、操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面,觸屏操作,實現(xiàn)全圖形化界面,易用易懂。
產(chǎn)品名稱 | GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號 | GSL-1800X-ZF2 | |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、工作臺:落地式,占地面積2m2以上 4、通風(fēng)裝置:需要 | |
主要參數(shù) | 1、電源:AC220V 1500W 2、蒸發(fā)電源功率:1000W 5V 200A 3、蒸發(fā)電極有效距離:44mm 4、樣品臺:?120mm(可旋轉(zhuǎn)) 5、膜厚測量精度:0.1 ?或0.01?(可選配高精度型) 6、外接真空機組:分子泵機組(可選配GZK-101機組或GZK-103D機組) 7、極限真空度:3.0×10-4torr(分子泵) 8、工作真空度:5.0×10-3torr 9、真空接口:KF40 10、使用環(huán)境:溫度35℃,濕度<75%(相對濕度)不結(jié)露,海拔<1500m | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:440mm×240mm×260mm; |
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